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    CT-1Plus電位滴定儀測定槽液中銅離子含量

    更新時間:2019-11-27瀏覽:2028次

    【目的】

    在印刷電路板制造工藝中,蝕刻工藝占有很重要的位置。蝕刻工藝多采用化學法,核心為蝕刻液,蝕刻液有多種體系,氯化銅體系為常見體系之一,了解體系中銅離子的含量情況有助于掌握蝕刻進度和優化工藝,本文采用電位滴定法測定蝕刻槽液中銅離子含量。

    【行業】

    電子

    【檢測指標】

    銅離子含量

    【儀器配置】

    CT-1PLUS型多功能滴定儀 

    Cu-101型銅離子電極

    R-101D雙鹽橋飽和甘汞電極

    【試劑選擇】

    純水

    乙二胺四乙酸二鈉標準溶液(0.05mol/L)

    【操作方法】

    用移液管移取槽液1ml,置于滴定杯中,加水60ml,置于滴定臺上,攪拌1min,設置好滴定參數,用乙二胺四乙酸二鈉標準溶液滴定至終點,同時做空白試驗。

     

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